真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的?-天生赢家 一触即发

       真空镀膜机离子镀技术市场使用占比率非常高，镀餐具，镀家居，镀饰品等都离不开离子镀膜技术，离子镀膜技术不仅仅在国内受追捧，国外也是一样受喜爱。那么，真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的？下面汇成小编为大家详细介绍一下：

       离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。
 
表 离子镀的种类及其特点：
种类蒸发源离化方法工作环境特点用途
直流放电法  电阻  辉光放电dc:0.1kv～5kv  惰性气体1pa，0.25ma/cm2  结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！耐热，润滑等镀件
弧光放电法  电子束、灯丝  弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa  离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，利于提高质量  切削工具、金属装饰等镀件
空心阴极法  空心阴极  等离子体电子束dc:0v～200v惰性气体或反应气体  离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层  装饰、耐磨等镀件
调频激励法  电阻、电子束  射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性气体或反应气体  离化率高，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差  光学、半导体等镀件
电场蒸发法  电子束  二次电子dc:1kv～5kv真空  不纯气体少，能形成较好的膜  电子元件
多阴极法    电阻、电子束热电子dc:0v～5kv惰性气体或反应气体 低速电子离化效果好  装饰、电子、精密机械等零件
聚焦离子束法电阻聚集离子束dc:0v～5kv惰性气体  因离子聚束，膜层结合力强  电子元件
活性反应法电子束二次电子dc:200v反应气体o2、n2、ch4、c2h4等  金属与反应气体组合能制备多种倾倒物膜层 电子、装饰、耐磨等镀件。
 
        以上是汇成真空小编整理出来的真空镀膜机离子镀的类型及特点，供大家参考和学习，希望能帮助到大家。