真空镀膜机镀膜出现不良反应该如何处理-天生赢家 一触即发

       天生赢家 一触即发-k8凯发镀膜过程或多或少都会出现一些问题，比如膜层不均匀、有污渍、瑕疵等等，这是大家最头疼的事情，因为出现这些不良反应后，我们要绞尽脑汁排查各种环节，找原因进行处理，既花费了大量的时间，也影响镀膜进度，因此前期我们能尽量避免的，那就尽量避免。那么出现这些不良反应的时，我们该如何处理呢，下面汇成真空小编为大家详细介绍一下，真空镀膜机镀膜出现不良反应如何处理？

第一：当真空镀膜机镀膜出现不良反应时：
        1、加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。
        2、加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。*注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，真空室的洁净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）。但不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑产生。这与应力以及材料热匹配有较大的关系。
        3、有条件时，机组安装冷凝机（ploycold），除提高机组真空抽速外，还可以帮助基片水汽、油气去除。
        4、提高蒸镀真空度，对于1米以上的镀膜机，蒸镀启动真空应高于3*10-3pa，镀膜机越大，蒸镀启动真空更高。
        5、有条件时，机组安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程辅助，有利于膜层的密实牢固。
        6、膜料的去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥。
        7、保持工作环境的干燥（包括镜片擦拭、上伞工作区），清洁工作环境时不能带入过多的水汽。
        8、对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能考虑用al2o3膜料，该膜料对大部分基片有较好的吸附力。对于金属膜，也可考虑第一层镀cr或cr合金。cr或cr合金对基片也有较好的吸附力。
        9、采取研磨液（抛光液）复新去除镜片表面的腐蚀层（水解层）
       10、有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮助，对提高膜表面的光滑度有积极意义。

第二：真空镀膜机膜层应力：
        薄膜的成膜过程，是一个物质形态的转变过程，不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在，对于多层膜来说有不同膜料的组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力、有的是压应力，还有膜层及基片的热应力应力的存在对膜强度是有害的，轻者是膜层耐不住摩擦，重者，造成膜层的龟裂或网状细道子。对于减反膜，由于层数不多，应力一般体现不明显，（但有些硝材的镜片即便是减反膜也有应力问题存在。）而层数较多的高反膜、滤光膜，应力是一个常见的不良因素，应特别注意。

改善对策：
        1、 镀后烘烤，最后一层膜镀完后，烘烤不要马上停止，延续10分钟“回火”。让膜层结构趋于稳定。
        2、降温时间适当延长，退火时效。减少由于真空室内外温差过大带来的热应力。
        3、对高反膜、滤光膜等在蒸镀过程中，基片温度不宜过高，高温易产生热应力。并且对氧化钛、氧化钽等膜料的光学稳定性有负面作用。镀膜过程离子辅助，减少应力。
        4、选择合适的膜系匹配，第一层膜料与基片的匹配。（如五层减反膜采用al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2；zro2也可以采用sv-5（一种zro2 tio2混和膜料）或其他混合高折射率膜料。。
        5、适当减小蒸发速率（al2o3-2.5a/s;zro2-3a/s;mgf2-6a/s参考速率）
        6、对氧化物膜料全部充氧反应镀，根据不同膜料控制氧进气量。

第三、外层膜表面硬度：
        减反膜一般外层选用mgf2，该膜层剖面是较松散的柱状结构，表面硬度不高，容易擦拭出道子。
改善对策：
        1、膜系设计允许时，外层加10nm左右的sio2层，二氧化硅的表面光滑度优于氟化镁（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化镁）。镀后离子轰击几分钟，牢固度效果会更好。（但表面会变粗）
        2、镜片出真空室后，放置在较干燥洁净的地方，防治快速吸潮， 表面硬度降低。

第四、其它
       造成膜强度不良的原因还有，真空度过低（在手动控制的机台容易发生）、真空室脏、基片加热不到位。辅助气体充入时，膜料也在放气致使真空度降低，使分子自由程减少，膜层不牢。所以辅助气体的充入要考虑膜料的放气，镀前对膜料充分预熔充分放气，也可以避免由于蒸镀中膜料放气造成真空度过度下降，从而影响膜强度。

第五、脱膜
        这里的脱膜虽然也是膜弱的一种，但与前述的脱膜有一些区别，主要特征为：点状脱膜、边缘脱膜、局部脱膜。主要原因使膜内有脏或污染物所造成的。
改善方法：提高基片的洁净度。
        以上五条是天生赢家 一触即发-k8凯发镀膜常见不良反应问题，以及改善方法。也是作为一个镀膜工程师必须要掌握的技巧，当遇到这些问题的时候能够及时排查和解决。