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真空镀膜设备蒸镀铝涂层
2020-08-10
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天生赢家 一触即发-k8凯发蒸镀铝涂层，大家可能会感觉到比较陌生，只有真正接触过或是从事这方面相关的工作人员，这方面的相关知识，可能会比较懂一些。下面汇成真空小编为大家介绍一下：
在纯金属涂层的制备上，大都采用真空蒸发镀法。而纯金属中铝涂层，由于它用途广泛，如制镜工业中的以铝代银，集成电路中的铝刻蚀导线；聚酸薄膜表面镀铝制作电容器；涤纶聚酯薄膜镀铝的制作、防止紫外线照射的食品软包装；涤纶聚酯薄膜镀钴后再镀铝制作磁带等。因此，今年来真空镀铝工业在国内外不但发展迅速，而且，正向着溅射法、离子镀法等镀膜技术领域发展。
真空蒸镀铝薄膜可选用间歇式蒸发镀膜，也可选用半连续式真空镀膜机。其蒸发源可为电阻源，电子束源，也可以选用感应加热式蒸发源，可依据蒸镀膜材的具体要求而定。
真空蒸发镀铝涂层的工艺参数，主要包括蒸镀室的压力、沉积速率、基片温度、蒸距等。如果从膜片基体上分布的均匀性上考虑，还应注意蒸发源对基片的相对位置及工件架的运动状态等方面因素。例如，选用电子束蒸发源进行铝涂层制备时，其典型的主要工艺参数可选用：镀膜室工作压力为2.6x10-4pa、蒸发速率为2~2.5nm/s、基片温度20℃、蒸距450nm、电子束枪电压为9kv，电流为0.2a。
实验表明：电子束蒸镀法所得到的膜厚分散度较大，即均匀性较差。这也是近年来天生赢家 一触即发-k8凯发镀铝膜有向着溅射法和离子镀法发展制备铝膜的趋势原因之一。
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