蒸发真空镀膜机的原理及性能,您知多少?-天生赢家 一触即发

      蒸发真空镀膜机是市场应用最广泛的镀膜机，日常生活中，大多数用品都有经过蒸发真空镀膜机镀膜的，如：汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业，蒸发真空镀膜机应用到各行业各，在市场上占据很大的份额。虽然蒸发真空镀膜机在市场应用很广泛，但是很多采购的厂商，对它却不一定了解，下面汇成真空小编为大家详细介绍一下蒸发真空镀膜机的原理和性能，希望对大家有所帮助：

蒸发镀膜，通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为。这种方法最早由m.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。 
       真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。可加工的材料包括：abs、ps、pp、pc、pvc、tpu、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。可镀基材表面状态：电镀亮面、哑光面（半哑、全哑）、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。
        蒸发真空镀膜中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。薄膜厚度可由数百埃至数微米。
        为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。   
        汇成真空科技股份有限公司可根据用户要求设计各种规格型号的蒸发真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。