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真空镀膜机tio2薄膜光电导与光催化介绍
2020-11-26
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天生赢家 一触即发-k8凯发tio2薄膜光电导与光催化，采用溶胶-凝胶法在石英基板上旋涂制备不同系列的tio2薄膜样品( 掺f 浓度、保温时间、薄膜厚度、晶型) ，并用x 射线衍射等分析测试手段对样品的结构等性能进行表征。通过对薄膜样品光降解亚甲蓝溶液的实验测定来表征样品的光催化性能，并测定其光电导值。研究结果发现光电导值越大的样品对应的光催化性能也越好，说明了光电导和光催化性能存在内在联系，为用物理法表征光催化提供了实验依据。经过分析得出，光催化性和光电导率同时存在最佳掺f 浓度( 2%) 、最佳薄膜厚度( 331. 5 nm) ，晶粒尺寸越大越有利于光催化性和光电导率的提高，锐钛矿-金红石混晶优于单一的锐钛矿相。
自1972 年fujishima发现tio2半导体单晶电极上的光解水现象以来，人们就开始了多相半导体光催化的研究。光催化降解属于复杂的光化学反应，影响降解特性的因素很多，诸如光照波长、光强、温度、ph 等，实验也较为繁琐，至今对于tio2的光催化活性评定尚未有统一、广泛适用的标准。
近年来研究人员开始尝试表面光电压、亮暗电导比值、亮态和暗态电导率等多种物理手段来研究表征光催化性能，希望获得更为简单的光催化性能评定手段。tio2是高阻半导体，暗电导率很低，往往通过测量微电流的方法来获得暗电阻，微电流的测量容易受到仪表的测量精度及外界噪声影响而降低测量结果的可信度; 采取亮暗电导比值法受暗电导率测量误差的影响。目前tio2薄膜的制备方法包括溶胶-凝胶法、原子层沉积法、气相沉积法、溅射法和低温等离子射流法等，其中溶胶-凝胶法由于其工艺简单，成本低廉已被广泛地应用。本文采取光电导法表征光催化，采用溶胶-凝胶法在石英衬底上制备不同条件的tio2薄膜，以亚甲基蓝为降解对象，研究薄膜的光催化性能，并测定其光电导; 为了准确地比较各样品光催化性能的优劣，实验过程中尽可能将光强、温度等条件保持一致，以期将光降解的外界影响减至最小。本实验用于光催化研究的tio2薄膜样品主要有掺杂浓度、保温时间、薄膜厚度、晶型等区别。从不同样品的表征测试中分析各种变化条件对光催化、光电导的影响，以更全面地了解光催化与光电导的关系。
天生赢家 一触即发-k8凯发tio2薄膜光电导与光催化介绍起来，比较偏理论化，这这方面研究不深的人，读起来可能感觉比较的吃力和难以理解，但是没关系，多读多看，慢慢就会好起来。
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