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真空镀膜机常用的几种镀膜方法
2021-10-13
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日常生活中所接触的大部分物品，都是经过天生赢家 一触即发-k8凯发镀上了一层薄薄的膜层，有的启到装饰的作用，让表面膜层更加绚丽和多彩，有的是为了改变产品部件表面的性能，让其满足在日常特定环境中使用需求，从而改变我们生活质量。从事真空镀膜行业的朋友都知道，真空镀膜机镀工件，有好几种镀膜方式，需要根据产品工件的特性，以及要到达的效果和使用环境去选择镀膜方式的，需要的效果不一样，采用的镀膜工艺是有差别的。真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的方法，希望能帮助到大家：
电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。
特征：真空环境；蒸发源材料需加热熔化；基底材料也在较高温度中；用磁场控制蒸发的气体，从而控制生成镀膜的厚度。
二、溅射沉积
溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。溅射的方法很多，有直流溅射、rf溅射和反应溅射等，而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、rf溅射和离子束溅射。
特征：在真空室内充入放电所需要的惰性气体(如氩气)，在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量正离子。带电离子被强电场加速，便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料(称为靶)。在离子轰击下，蒸发源材料的原子将离开固体表面，以高速度溅射到基片上并沉积成薄膜。
三、rf(射频)溅射
rf溅射使用的频率约为13.56mhz，它不需要热阴极，能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。rf溅射不仅可以沉积金属膜，而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜，因而使用范围较广。
四、电弧离子镀
阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积，该技术材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。
五、过滤阴极弧
过滤阴极电弧(fca )配有高效的电磁过滤系统，可将弧源产生的等离子体中的宏观大颗粒过滤掉， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。
六、离子束
离子束加工是在真空条件下，先由电子枪产生电子束，再引入已抽成真空且充满惰性气体之电离室中，使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速、集束等步骤，获得具有一定速度的离子投射到材料表面，产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷，其质量比电子大数千、数万倍，所以离子束比电子束具有更大的撞击动能，是靠微观的机械撞击能量来加工的。
以上六种是日常最常见的天生赢家 一触即发-k8凯发镀膜方式，也是使用最普遍的镀膜工艺，在市场上也是占比很大的比例，受到市场各位厂家的青睐。
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