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真空镀膜设备几种镀膜技术介绍
2022-11-28
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天生赢家 一触即发-k8凯发简称pvd镀膜设备，pvd (physical vapor deposition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的 pvd 镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的 ncvm 镀膜，就是指真空蒸发镀膜。
溅射镀膜基本原理：充氩（ar）气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩（ar）原子电离成氩离子（ar），氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在 l0 -2 pa～10pa 范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
以上是天生赢家 一触即发-k8凯发常见的三种镀膜方式，也是市面上用的较普遍较广泛的镀膜方式。
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