我们的实力,真空镀膜设备,pvd设备-天生赢家 一触即发

公司自行研发设计、加工的新型中频圆柱旋转阴极，提高靶材利用率，降低生产成本。

有效防止挡板阀外表面出现冷凝水现象，提高设备的可靠性并延长使用寿命，使设备安全运行。

与传统的速度张力控制相比结构简单，控制方便，后期维护成本的减少，运行可靠性能稳定。

可对镀膜前的基材进行预清洗，提高成膜附着力，工作模式包括聚焦模式和散焦模式。

确保工艺氛围均匀性。

倾斜式箱体设计实现了基片在装卸过程中无夹具印，解决了大型超薄基片装夹过程中的扭曲问题。

无水电引入系统的新型插板阀，减少故障发生率，提高生产效率。

从工厂现场自动化设备中采集实时运行状态、运行参数、加工信息和质量信息，并传输到监控终端分解成用户所需要的报表、图表和可视化界面形式显示，使生产管理人员能及时监控生产设备的运行状况和能力，合理安排生产及时调度，保障生产设备处于最佳状态，生产顺利、有序、高产、低耗进行。

通过等离子体发射光谱监测来控制气体流量和电压，控制优化反应溅射的状态，从而获得最佳的沉积速率与膜层质量。

可灵活改变工艺配置，适应各种镀膜要求。