hcms re系列
内外饰件金属化
设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜，增加了设备的用途和灵活性。
利用磁控溅射阴极辉光放电将原子（靶材）离化沉积在基材上（物理气相沉积pvd）和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化，对塑料表面进行金属化、利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用。
设备配置了等离子体处理装置，高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好；该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。
优势：
•镀铬外观丰富
•耐磨/耐腐蚀
•在塑料上具有出色的附着力
•铬基涂料
•没有六价铬化合物（cr 6）
磁控溅射和真空蒸发技术结合
大装载量转架提升产能
工作可靠、重复性一致性良好
沉积速率高快，附着力好
膜层品质细腻，致密性高
韧性好，不易破裂脱落
| 型号 | hcma-1518 |
| 真空室尺寸 | 1500×1800mm |
| 电源类型 | 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源 |
| 真空室结构 | 立式双开门、立式单开门、卧式单开门、抽气系统 |
| 真空系统 | 机械泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：深冷系统） |
| 极限真空 | 8×10-4 pa（空载、净室） |
| 抽气时间 | 空载大气抽至5×10-2pa小于6分钟 |
| 工件旋转方式 | 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速 |
| 控制方式 | 手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋plc |
| 备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
| 型号 | hcme-1820 |
| 真空室尺寸 | 1800×2000mm |
| 电源类型 | 电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源 |
| 真空室结构 | 立式双开门、立式单开门、卧式单开门、抽气系统 |
| 真空系统 | 机械泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：深冷系统） |
| 极限真空 | 8×10-4 pa（空载、净室） |
| 抽气时间 | 空载大气抽至5×10-2pa小于6分钟 |
| 工件旋转方式 | 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速 |
| 控制方式 | 手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋plc |
| 备注 | 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做 |
电话：
邮箱：
hcvac-pvd
