diamond like carbon (dlc) coating equipment 类金刚石dlc涂层设备
该系列设备具备多种dlc涂层沉积技术,模块化的涂层设备设计,可根据客产品应用需求,单独或组合过滤阴极电弧,闭合场磁控溅射,pacvd和离子源技术模块于dlc沉积设备,适用于多种科学研究,产品开发和批量生产的要求。技术先进,操作方便,能量消耗少,绿色环保等特点,广泛应用于机械,电子,光学,能源,装饰等领域。
hcvac开发的dlc涂层,具有良好的附着性,高的硬度和耐磨性,低的摩擦系数,低的表面粗糙度,能在多种金属与合金工模具或零件表面沉积dlc涂层。独特的低温涂层技术,还能适用于在塑胶等不耐高温的材料上沉积dlc涂层。
dlc涂层具有较高的硬度、优异的减摩耐磨性能、高热导率、低介 电常数、宽带隙、良好的光学透过性以及优异的化学惰性和生物兼容性等,在航空航天、机械、电子、光学、装饰外观保护、生物医学等领域有着广阔的应用前景。dlc涂层适合于磨损和滑动的环境下,在没有任何润滑介质的条件下,可以降低摩擦损耗,可以用于汽车发动机零部件(燃油喷射系统、动力传动系统)、轴承、滚轮、纺织机械、航空航天等众多领域。
dlc涂层设备制备的dlc涂层(类金刚石涂层),具备质量稳定,与基体结合力好,耐磨性好,摩擦系数低,耐腐蚀性好等综合优良性能。广泛应用于发动机零部件,有色金属切削刀具,有色金属及不锈钢等成型冲压模具,滑动密封部件,半导体行业模具,注塑模具,纺织行业等。
针对不同的行业,并根据客户不同的要求及材料,我们运用不同的工艺及制备方法,设计出相适应的dlc涂层设备,以满足客户的需要。
dlc涂层特点:
1、是一个很好的自润滑塑料加工应用涂层;
2、涂层特别致密,不起化学作用,沉积膜是1~3μm,硬度是2000hv~2500hv;
3、具有优异的摩擦磨损性能,耐高温350℃,并具有很高的耐粘接剂和磨粒磨损;
4、快速、可预见的脱模大大提高质量和生产率,是pecvd涂层塑料加工的首选。
主要模块 | |
arc | hipims |
创新的apa蒸发器技术(先进的等离子辅助)基于阴极真空电弧,为新的层结构提供了多种开发可能性。 优势: ●靶材使用率高,降低靶材成本 ●沉积率高 ●磁场可调节 ●靶材更换时间短 ●等离子体密度高 ●完美的涂层结合力 |
hipims代表高功率脉冲磁控溅射。 优势: ●离化率高(类似于电弧法) ●高功率密度,从 100 到1000 w/cm2 ●等离子密度非常高 ●可以通过等离子参数设置来调节层结构 ●涂层非常光滑 ●完美的涂层结合力 ●在低基材温度下沉积致密的涂层 |
其他模块 | |
溅射 | 氮化 |
在溅射工艺中,通过高能离子(ar)轰击靶材,分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体,将涂层沉积在基材上。 优势: ●可以溅射多种材料 ●多种工艺变量可用 ●光滑的涂层 ●结合功率刻蚀工艺aegd获得好的涂层结合力 |
使用氮化模块,可在同一个系统、同一个批次,在pvd和/或pacvd涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层,为后续的pvd/pacvd涂层提供完美的支撑。 优势: ●优化工具和零部件属性 ●替代昂贵的基材 ●显著延长寿命 ●可以应用所有pvd涂层 |
dlc | ta-c |
dlc就是类金刚石涂层,指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用dlc模块,可以通过使用pvd和/或pacvd工艺来生成不同的dlc涂层。标准dlc涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。 优势: ●完美的涂层结合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系数 ●光滑的涂层 |
ta-c 就是不含氢的四面体非晶碳,指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-c模块可以生产不同的ta-c涂层。 优势: ●适用于比dlc更高的温度环境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂层结合力 ●光滑的涂层 |